“七个核心三条线，三个方向，目的就是摸清我国集成电路全链条的技术基础与资源储备。”
刘教授说完，看向宋颜：“宋教授，你先汇报华东线的情况。”
宋颜教授站起身，走到台前：“王先生、夏先生，各位专家，我汇报华东、华中线的调研成果。”他打开笔记本，“这条线我们走访了上海、南京、无锡、苏州等地共十二家单位，重点是元器件制造工艺。”
“第一站，上海元件五厂和上无十四厂。”宋颜翻开一页，“这里是我国晶体管生产的重镇，具备从晶片切割、光刻掩模、扩散掺杂，到封装测试全过程，他们的光刻掩模版，精度能达到20微米左右。”
会议室里响起一阵低语，20微米，这已经是相当高的手工精度了。
“但是，”宋颜话锋一转，“问题也很明显，这些精度严重依赖老师傅的熟练操作，这种手工制作方式，无法规模化，一致性差，而且老师傅一旦退休，技术就可能断层。”
他继续汇报：“在上海冶金所，我们看到了硅单晶提纯的中试线，能把硅材料提纯到6个9（99.9999%）的纯度，但成品率只有30%到40%。主要问题是热场不均匀，熔体对流不稳定，导致晶锭内部缺陷多。”
宋颜从公文包里取出一个小玻璃瓶，里面装着几片银灰色的硅片：“这是他们给我们的样品，纯度达标，但直径只有一英寸，而且每片的质量参差不齐。”
他继续汇报上海无线电技术研究所、南京772厂、无锡半导体器件厂等单位的调研情况。
宋颜合上笔记本：“总的来说，华东线调研的结论是，我国已经具备了晶体管制造的基本工艺能力，有一批经验丰富的老师傅，有初步的净化生产意识。但问题也很突出，手工操作比重大，设备简陋，精度不够，缺乏标准化，规模化生产能力不足。”
他顿了顿，看向在场专家：“但最重要的是，我们看到了可能性。如果把这些分散的工艺经验整合起来，加上更精密的设备、更严格的标准、更系统的管理，完全有能力造出我们自己的集成电路。”
会议室里安静片刻，然后响起掌声。
接下来是谢凯，他走到台前，打开一个厚厚的文件夹，里面除了文字报告，还有大量手绘草图。
“东北线我们重点调研了设备制造和化工原料，第一站是长光所，这是我们‘星河计划’光刻组的牵头单位。”
他取出一张草图，贴在黑板上。
那是一台复杂机器的剖面图，标满了尺寸和注释。
“这是长光所正在调试的第一代光刻机原型。”谢凯指着图说，“采用汞灯光源，透过掩模版，把电路图案投影到涂有光刻胶的硅片上。设计分辨率是5微米，但实际调试中发现很多问题。”
“首先是光源不稳定。”谢凯的手指点在图纸的光源部分，“汞灯的强度有波动，导致曝光不均匀。他们试过加稳压电路，但效果有限。王先生，”他看向长光所的王先生，“您补充一下？”
王先生站起身，走到图前：“谢凯同志说得对。光源问题是我们目前最大的瓶颈。除了强度波动，还有光谱纯度问题，我们需要的是特定波长的紫外光，但汞灯是全光谱的，杂散光会影响分辨率。”
他顿了顿：“我们正在考虑技术方向，一是研发更稳定的汞灯电源系统；二是探索替代光源，比如激光，但激光技术刚起步，难度很大；还有一种办法就是采用电子束光蚀刻，能稳定在5微米，但从长远来看，必须要走光刻路线。”
谢凯继续汇报：“除了光源，还有机械问题。光刻机的工作台需要微米级的移动精度，但我们的丝杠、导轨加工水平不够，有回程间隙，导致对准误差。还有热变形，机器运行一段时间后，温度变化会引起结构微小的热胀冷缩，影响精度。”
他翻到下一页：“在哈尔滨工业大学，我们看到了希望。哈工大的精密机械实验室，正在研究超精密加工技术。他们用自制的研磨机，能把丝杠的螺距误差控制在1微米以内，这已经是国际先进水平了。更重要的是，他们有一种‘误差补偿’的思路，先测量出加工误差的规律，然后在控制系统中预先补偿。”
谢凯从文件夹里取出一小段金属件，递给旁边的专家传看：“这是哈工大加工的样品，表面光洁度达到V9级，几乎像镜子一样。”
他接着汇报大连化学物理研究所的光刻胶、沈阳金属研究所的特种金属靶材、哈尔滨锅炉厂的大型真空腔体焊接技术和吉林半导体厂的全手工锗晶体管生产线。
谢凯合上文件夹：“东北线的结论是，我国在精密机械、光学系统、化工材料方面有一定基础，但与国际先进水平差距明显。最大的问题是‘系统性’，单个零件可能做得不错，但组装成整机，性能就大打折扣。我们需要的是系统集成能力，是各个部件之间的精密配合。”
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