经历过无数次失败后，胶膜终于不再整片脱落，曝光区域成功固化，未曝光区域顺利溶解。
第一次出现了清晰的明暗分区！
“有效果了！”刘科学精神一振。
硅片之上，灯光照射过的地方胶膜坚硬透亮，未照射的地方被显影液干净洗脱。
虽然边缘模糊、线条粗糙，分辨率极低，完全达不到芯片纳米级标准，却意味着——
他们摸索的光刻胶，具备了光刻性能。
林金莲盯着硅片上模糊的边界，目光锐利道：
“还是不行，边缘锯齿严重，分辨率不够，无法承载细微电路图案。
只能做最粗的纹路，离芯片级还差太远。”
她说着，笔尖快速划过记录纸，敲定最终优化方向：
“溶剂再提纯一级，感光剂二次浓缩，提高胶膜致密性，降低固化误差。”
深夜三更。
实验室内灯火依旧通明。
第九百九次调试。
全新改良版光刻胶缓缓配制完成。
经过二次浓缩感光成分、高精度恒温聚合、长时间避光熟化。
这一版胶液质地更加细腻纯粹，通透如水，无一丝气泡杂质。
林金莲小心涂布在全新打磨的高纯硅片上，阴干成膜。
胶膜薄如蝉翼、均匀无瑕，触感紧实顺滑。
她拿起简易紫外光源，在硅片胶面上投射出一道极细的窄缝光影。
精准曝光、静置反应、滴入显影液。
滋滋——
细微的液体反应声响起。
几秒之后，奇迹出现。
硅片之上，一条笔直、干净、边缘平整的细线完美显现。
无毛刺、无晕染、无脱胶、无扩散。
曝光区域完好固化，未曝光区域干净剥离，界限清晰明了。
刘科学屏住呼吸，俯身凝望，眼中满是震撼。
成了。
真的成了。
在没有高端化工设备、没有机密配方、他们靠着数百次不眠不休的试错、精准入微的手感、极致严谨的推演，林金莲硬生生调试出了可用级光刻胶。
林金莲轻轻抚摸着硅片上的精细纹路，眼底终于露出一抹明朗笑意。
“基础光刻胶，达标了。”
她抬眼看向刘科学，语气从容而坚定的说道：
“现在，硅片基底有了，光刻胶材料有了。
接下来，我们要造出能够投射纳米级精密图案的光刻光路系统。
那是光刻机的眼睛，是整台设备最核心的难点。”
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